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半导体含氟废水处理案例|半导体含氟废水处理方法

楼盘历史背景 该半导体材料分娩制造各个中小型企业属于西北地域,关键分娩集成软件控制电路基带芯片,日的废气含氟焦化污废水 约800吨。在当地的安全条件挺高,原来的治理配套设施就没有办法条件氟化物的废气溶液浓度达不到5mg/L的新条件,各个中小型企业注资1400万元新砌技术专业含氟焦化污废水 治理软件。 生产废水的成分及从何而来 废污水大部分在于集成电路芯片研发工作中的刻蚀生产工艺和擦洗生产工艺,大部分造成的有害物质是指: 氟铝离子酸度:300-800mg/L pH值:2- 富含一点硅酸盐、磷酸二氢钠 少量巨资属如铜、镍等 解决工艺设备步骤流程 选用"预治疗+物理沉淀自己+的深度治疗"組合工艺流程: 的调节池:匀衡土质储水量,配置pH迅雷在线污染监测 五级反應池:加药系统氢钝化钙,调整pH至7-8,建立氟化钙析出 6级滤渣池:滤渣剥离氟化钙厌氧颗粒污泥 五级不良反应池:添加氯化钙和聚合反应氯化铝,进一个步骤的还原残余物氟阴离子 下级发展池:分次发展拆分 砂滤控制系统:剔除自动隐藏物 活力性炭吸:出掉有机酸物和微量分析天价属 工业废水操作装置:板框压滤脱水情况,工业废水水分含量率降到60%如下 决定的效果 系统自动运行保持稳定后,冒水水源: 氟亚铁离子质量浓度:2.1-3.8mg/L pH值:6.5-7. SS<5mg/L 高价属占比均低过检测限 已经拥有《电商轻工业水弄脏物废气标准的》(GB39731-2020)规范要求,年可以减少氟化物废气约180吨。

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