芯片厂酸性废气怎么处理方法|芯片厂酸性废气处理案例
一、处理器厂偏酸废水概述
集成ic加工制造过程中 中会出现很大酸碱性工业废水,最主要的缘于于刻蚀、清晰、扩撒等工序部分。这么多工业废水基本成分非常复杂,一般是以及下列四种:
氟化物(HF、SiF₄等)
:主要是出自于刻蚀新工艺,具强被杀菌作用和毒副作用。
氯化氢(HCl)
:常考于清洁工作和刻蚀的时候,可溶于水出现咸性悬浊液。
盐酸雾(H₂SO₄)
:用于晶圆的洗涤,废水中含有不起眼液滴,易达成酸雾。
氮空气氧化物质(NOx)
:区域高温环境新工艺会会产生NOx,具备有敏感性且易产生光生物雾气。
这样的有机废气不仅能结垢设施设备,还会持续对学习环境诱发非常严重污染源,故而要过提高效率加工就能废气。
二、呈酸性有机废气物净化处理瓶颈问题与难点
(1)外理常见问题
化学成分繁复
:有所不同工艺流程会产生的有机废气因素差异性大,需重要性性解决。
浓度值起伏大
:加工操作过程中气体直接排股票放量不比较稳定,对办理系统的适用性标准要求高。
浸蚀性强
:弱酸性气身体灼伤通风管道和产品,需使用的耐灼伤物料。
排放物标淮非常严格
:处理芯片厂普通需需要满足《大方得体被排放出物整体排放出标准》(GB 16297-1996)等相关法律法规必须。
(2)治疗难点
预操作
:选择喷淋头塔或干试吸收出掉大粒子物和部份强酸的气体。
重点正确处理
:可用湿式洗滌(碱液中合)、吸出法(可溶性炭、分子式筛)或自燃法(RTO)。
后补救
:除雾装制剔除很小液滴,加强组织领导未达标尾气排放标准。
智慧化调节
:及时探测气体溶度,整改处置数据以提生有效。
三、著名 装修案例讲解
事例1:某新国际集成块公司氟化氢(HF)工业废气处里工程项目
排放物特别
:
通常含量:HF(浓度值50-200mg/m³)、微量分析SiF₄
风口尺寸:20,000m³/h
温湿度:干燥
工作预案
:
有级喷淋清洗吸收能力
:
独一级通过NaOH悬浊液自动喷淋系统,取除大方面HF。
第十二级用Ca(OH)₂硫酸铜溶液进第一步清洁,形成CaF₂沉淀物。
除雾装置设备
:极有效率化学纤维除雾器删去夹杂液滴。
智能化调整
:pH线探测,手动投药为了保证采和工作效率。
处置郊果
:
HF排放标准氨水浓度<1mg/m³,取除率>99%。
机系统正常运行可靠,运维费用低。